粒子ビーム工学研究室




RF放電-電荷交換負イオン源

Alphatross and charge exchenge cell ion source
RF放電で気体プラズマを生成します.
プラズマから正イオンを引き出します.
その正イオンをルビジウムを用いて,負イオンに変換し,負イオンビームを生成します.
生成可能イオン種;ヘリウム,水素の負イオン
<注>ヘリウム以外の希ガスは電子親和力が負の為に負イオンは生成できません.

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SNICS-II負イオン源

Snics-II ion source
セシウムで固体(ターゲット)表面をスパッタし,できた負イオンを引き出します.
ターゲット表面にセシウムが薄く堆積すると,表面の仕事関数が下がり,負イオン生成確率が増加します.
生成可能イオン種;水素,重水素,リチウム,炭素,酸素,珪素等の負イオン

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P45ライン実験チェンバー


P45 nuclear fusion chember
D(d,p)T, D(d,n)3He等の核融合反応に関する実験を行っています.

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デュオプラズマトロン型イオン源


Duoplasmatron ion source
イオン注入に使用します.
生成可能イオン種;水素,重水素の正(分子)イオン
エネルギー;最大30keV

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P15マイクロビームライン


P15 micro beam line

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P15ライン実験チェンバー


P15 extreamely high vacuum chember
現在は加速器と切り離して試験中.
日新電機製の低エネルギーイオン発生器が奥に設置されている.

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M15 ライン実験チェンバー


M15 chember
学生実験/イオンビーム照射用(旧)


M15 new chember
学生実験/イオンビーム照射用(新)

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M30ライン実験チェンバー


M30 chember
RBS, ERDA, NRA, PIXE汎用分析用.
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M45ライン実験チェンバー1


M45 chember
写真の左側.
イオンビーム照射/PIXE測定用.
in-situでラマン・赤外線吸光分光測定ができます.
右側にはエクステンションチェンバーが取り付けてあります.
現在は右側に波長分散型PIXE装置が設置されています.


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M45ライン実験チェンバー2


WDX-PIXE
波長分散型PIXE測定用(WDX-PIXE)

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