粒子ビーム工学研究室

RF放電-電荷交換負イオン源

RF放電で気体プラズマを生成します．
プラズマから正イオンを引き出します．
その正イオンをルビジウムを用いて，負イオンに変換し，負イオンビームを生成します．
生成可能イオン種；ヘリウム，水素の負イオン
＜注＞ヘリウム以外の希ガスは電子親和力が負の為に負イオンは生成できません．

セシウムで固体（ターゲット）表面をスパッタし，できた負イオンを引き出します．
ターゲット表面にセシウムが薄く堆積すると，表面の仕事関数が下がり，負イオン生成確率が増加します．
生成可能イオン種；水素，重水素，リチウム，炭素，酸素，珪素等の負イオン

D(d,p)T, D(d,n)³He等の核融合反応に関する実験を行っています．

イオン注入に使用します．
生成可能イオン種；水素，重水素の正（分子）イオン
エネルギー；最大30keV

現在は加速器と切り離して試験中.
日新電機製の低エネルギーイオン発生器が奥に設置されている．

学生実験／イオンビーム照射用（旧）

学生実験／イオンビーム照射用（新）

RBS, ERDA, NRA, PIXE汎用分析用．

写真の左側．
イオンビーム照射／PIXE測定用．
in-situでラマン・赤外線吸光分光測定ができます．
右側にはエクステンションチェンバーが取り付けてあります．
現在は右側に波長分散型PIXE装置が設置されています．

波長分散型PIXE測定用(WDX-PIXE)