試料作製装置，測定器
イオン注入器
装置全体
イオン源
イオン源
デュオプラズマトロンイオン源
加速電圧
3万ボルト
エネルギー
30keV，定常ビーム
分析チェンバー
トップに戻る
薄膜製造装置
薄膜製造装置
蒸発方式
抵抗加熱
スパッタリング
トップに戻る
水素吸蔵装置
電気炉を用いて水素吸蔵合金を作成できます．
四重極質量分析器(写真右)を取り付ければ昇温脱離実験ができます．
トップに戻る
平面結像型軟X線分光器
回折格子
計測範囲
1200grooves/mm
2400grooves/mm
10nm-70nm
5nm-50nm
測定系
Q-Plate
MCP
トップに戻る
