神戸大学の
実践教育 & 実習 (予定)
神戸大学では、
『光と半導体の融合技術 (フォトニクス)』
分野の講義・実習科目を開設いたします。
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実践教育(講義)
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光工学特論
(後期セメスター)半導体関連企業、研究機関、および国内外の大学から第一線で活躍する研究者・技術者を講師として招聘し、フォトニクス分野の基礎から最先端技術までを学びます。産業界と学術界の最前線で生み出されている研究成果や開発事例に直接触れることで、フォトニクス技術が情報通信、データセンター、センシング、医療などの幅広い分野で果たしている重要な役割について理解を深めます。
本講義では、量子力学、電磁気学、固体物理学を基盤として、半導体における光と物質の相互作用、発光・受光・光伝搬といった光学プロセスの本質を学びます。さらに、レーザー、光通信、光集積回路などの基盤技術に加え、次世代の高速・大容量情報処理を支える中核技術として注目を集めるシリコンフォトニクスについても理解を深めます。
企業での製品開発や大学・研究機関における最先端研究の実例を通して、基礎理論がどのように革新的なデバイスやシステムの創出につながるのかを学びます。多様な分野の専門家との交流を通じて視野を広げ、未来のフォトニクス技術を担う研究者・技術者として必要な知識と発想力を養うことを目指します。
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実践実習
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連携企業へのインターン
(8月・9月に実施予定)企業の最先端技術者による特別講義とクリーンルームや半導体製造装置の見学を実施いたします。
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半導体デバイス作製実習
(夏季休暇期間集中講義を予定)本実習では、次世代光集積回路技術として注目されるシリコンフォトニクスを題材に、フォトニック結晶導波路の設計・作製・評価を一貫して体験します。まず、シミュレーションソフトウェアを用いてシリコンフォトニック結晶導波路を設計し、光の伝搬特性や構造パラメータがデバイス性能に与える影響について理解を深めます。
続いて、半導体デバイス製造で広く利用されているフォトリソグラフィー技術を用いてリッジ型導波路を作製し、微細加工プロセスの基礎を学びます。さらに、光学測定装置を用いてフォトニック結晶導波路の透過率測定を実施し、設計・作製したデバイスの特性評価を行います。
本実習を通して、シリコンフォトニクスデバイスの設計から試作、評価に至る一連の研究開発プロセスを体験し、光集積回路や光通信技術を支える基盤技術への理解を深めます。半導体技術と光技術の融合領域における実践的な知識と技術を修得することで、最先端のフォトニクス研究や産業応用への理解を高めることを目指します。
なお、実習科目および他大学実施科目については、神戸大学大学院工学研究科修士課程の修了要件単位には含まれません。
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