神戸大学工学研究科機械工学専攻MI-1のウェブページです。 This is a web page of MI-1 lab. in Department of Mechanical Engineering, Kobe University.

Facilities

磯野研究室はマイクロ/ナノプロセスを行うクリーンルームと評価・解析室に分けられます。

Clean room

クリーンルームは通常ルームとイエロールームがあり，MEMSプロセスが可能です。 通常ルームにはICP-RIE装置や平行平板型RIE装置，XeF2エッチング装置，熱酸化炉，拡散炉，真空蒸着装置，スパッタ装置，CVD装置，イエロールームには両面アライナ等フォトリソグラフィ用機器があります。

Measurement & observation room

	評価・解析室では，デバイス評価のためのFE-SEM，AFM，光学顕微鏡，インデンターなどとともに独自で開発したデバイス評価装置があります。

Equipments

研究室の主な装置です。主としてマイクロ・ナノファブリケーション機器，独自開発の計測機器などを設置しています。

｜ Etching ｜ Deposition ｜ Lithography ｜Post-process ｜Observation and measurement ｜

Etching and cleaning

ICP-RIE model : Multiplex ICP (Sumitomo Precision)	RIE model : RIE10NR (SAMCO)
XeF2 dry etcher model : none (none)	UV-O3 cleaner model : UV-1 (SAMCO)

Deposition and thin-film formation

Vacuum Deposition System model : VPC-260 (ULVAC KIKO, Inc.)	CVD (Chemical Vapor Deposition) model : TVC-101 (VIC International)
Furnace (Thermal oxidation and diffusion) model : KTF773N1 (KOYO THERMO SYSTEMS)	Sputter model : L-210S-FH (ANELVA Co.)

Lithography

Double-side Mask Aligner model : PEM800 (UNION OPTICAL CO., LTD.)

Spin-coater model : SC-303 (Oshigane)

Post-process

Dicing saw model : DAD-2/6H (DISCO)

Manual Wire Bonder model : HB10 (tpt)

Observation and measurement

FE-SEM model : S-4800 (Hitachi Hi-tech)	AFM model : SPI-3800N/SPA-300V (SII)
Prober model : none (none)	Nano indenter model : ENT-1100 (ELIONIX)